1樓：FA農民工
Source Power,源功率,加在上電極Bias Power,偏置功率,加下電極,即矽片側通過控制Bias Power,即偏置功率,可以增強等離子體的方向性,改變刻蝕過程中的深度,側牆角度負載效應;
此外還與腔體的壓力有互動作用;
刻蝕是乙個複雜的過程,除了源功率&偏置功率,使用的氣體比例,腔室的壓力,刻蝕物件的表面形貌都會同時對結果造成影響
具體可以看 Pulsed plasma etching for semiconductor manufacturing
2樓：李想
source power也叫antenna power，指等離子源的功率，粗略理解就是腔體內產生更多的等離子體，如果刻蝕是rie，化學刻蝕的話是會加大刻蝕速率的;
bias power是襯底偏壓的大小，這個功率越大等離子體會更快地轟擊待刻材料的表面，對於ibe，物理刻蝕的速率有較大提公升。
總之，提高這兩個功率對刻蝕速率都會有所提高，只是針對不同刻蝕方法提高的程度不同。
SPR表面等離子共振技術中倏逝波與等離子的關係以及反射譜聯絡？
跟物理相關的東西，概念要弄清。SPR雖然叫做 表面等離子體諧振 但實質上跟號稱物質第四態的 等離子體 基本沒關係。從分類上說，也是不同的領域。SPR屬於光學或電磁學。SPR存在於金屬 或者其他permittivity 0的材料 和電介質材料介面處，滿足波矢匹配條件即可激發。在理論上來說，應用麥克斯韋...
等離子蝕刻機（幹刻）與等離子清洗機是一件事嗎？
Devil 怎麼說呢等離子清洗的過程其實帶有蝕刻的不過幅度很小而已。實驗室有中國產桌面型PLUTO系列的等離子清洗機，價效比很高。與很多頂級高校都有合作。 FA農民工 顯然不是 刻蝕 雕刻刀,根據你的需求把膜層雕刻成各種形狀,可以是利用等離子體 正離子轟擊 的,也可以是化學氣體的,也可以是等離子體 ...
等離子隱身是什麼樣的原理？
武裝精神病人 高讚的plasmon是等離子激元的意思，但需要光子去激發表面自由電子的振盪，有吸收入射波或改變反射波的效果。等離子體隱身則不一樣，要形成等離子雲，在電子密度高，等離子體頻率高的情況下全吸收入射電磁波，例如波長超過3000千公尺的電磁波能被電離層全部吸收，或者改變反射波的方向等特性實現隱...