1樓：Devil
怎麼說呢等離子清洗的過程其實帶有蝕刻的不過幅度很小而已。實驗室有中國產桌面型PLUTO系列的等離子清洗機，價效比很高。與很多頂級高校都有合作。
2樓：FA農民工
顯然不是
刻蝕
雕刻刀,根據你的需求把膜層雕刻成各種形狀,可以是利用等離子體（正離子轟擊）的,
也可以是化學氣體的,
也可以是等離子體（正離子轟擊）+自由基化學腐蝕,早些年採用化學液體腐蝕,
而不是樓裡某位大哥說的幹蝕刻 Dry etch清洗
顧名思義,就是把表面的不需要的材料去除，不需要控制形貌,去除即可可能是等離子刻蝕後殘餘的掩膜,副產物
也可能是腔體中殘留的顆粒
或是其他各種原因殘留的一些不需要的物質
3樓：曹嘉榮
簡單來將蝕刻和清洗是兩種不同工藝，通的工藝氣體不同。等離子清洗機中國產的非常多了，如果不是對均勻性和溫度要求高的話，中國產基本能滿足。至於蝕刻機，老實說就算進口做的好的品牌也屈指可數。
可以進http://
roplass.com
4樓：楊旭
CVD=Chemical Vapor Deposition ，在相當高的溫度下，混合氣體與工件表面相互作用，使混合氣體中的某些成分分解，在工件表面形成金屬或化合物固態薄膜或鍍層。其為TFT製造中的一道重要工序。
等離子清洗主要為對氣體施加足夠的能量使之離化變成等離子狀態。通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔目的，主要用於清潔有機物。
5樓：熱心市民謝先生
樓上那個強強基本說的就是你要的答案了，你要說國內的裝置製造水平，那我可以給你講就是基本為零，我們用的基本所有裝置都是進口日韓以及歐美的裝置的。
等離子刻蝕機中的「source power」以及「bias power」與刻蝕的關係是？
FA農民工 Source Power,源功率,加在上電極Bias Power,偏置功率,加下電極,即矽片側通過控制Bias Power,即偏置功率,可以增強等離子體的方向性,改變刻蝕過程中的深度,側牆角度負載效應 此外還與腔體的壓力有互動作用 刻蝕是乙個複雜的過程,除了源功率 偏置功率,使用的氣體比...
SPR表面等離子共振技術中倏逝波與等離子的關係以及反射譜聯絡？
跟物理相關的東西，概念要弄清。SPR雖然叫做 表面等離子體諧振 但實質上跟號稱物質第四態的 等離子體 基本沒關係。從分類上說，也是不同的領域。SPR屬於光學或電磁學。SPR存在於金屬 或者其他permittivity 0的材料 和電介質材料介面處，滿足波矢匹配條件即可激發。在理論上來說，應用麥克斯韋...
等離子球是什麼？
東信高科plasma 等離子體在照明和廣告行業獲得廣泛應用的同時，在過去30多年間，有數字藝術家也在利用等離子體放電效應作為藝術表現的工具。等離子體藝術的創始人可追溯到特斯拉諧振變壓器 或稱特斯拉線圈 等技術的發明人尼古拉 特斯拉。特斯拉最初發明的是等離子體發光球，或稱等離子體求 閃電球或星雲球等。...