如何把細節從高模烘焙到低模?

時間 2021-06-02 03:48:10

1樓:陶仁賢

我習慣用 Substance Painter 烘焙,也簡單,也方便,順便畫 PBR 材質。

當然模型 UV 很重要,提前做好很關鍵。

2樓:freeyy

使用現在行業裡大部分流行的三維軟體都可以實現高精度模型(High Polygon)——烘焙(Bakeing)——低精度模型(Low Polygon)的過程。

具體來說:

你需要具有乙個三維模型的三個不同精度版本即:

具有高精度級別的三維模型(它具有你要表達該模型的一切三維網格細節版本,及其相應的紋理貼圖[非必須],有紋理的情況該模型肯定帶有UV,專業上叫High Poly)

目標使用的低精度的三維模型(基於你需要最終使用的展示平台限制而製作的低精度模型版本,這個模型需要具有自己的UV資訊,以備承載高模網格細節,專業上叫Low Poly)

在高精度模型與低精度模型之間的乙個對映模型(這個模型一般叫做Project mesh,或者叫做Cage Mesh,一般來說電腦會為你自動產生這個模型,它的作用就像乙個投影機或者投影範圍,想象一下你就知道它在三個模型之間的作用了,這個中間模型,肯定會有並且發揮作用,當然大部分情況下你可以手工製作它)

烘焙過程:

1、高精度模型和低精度模型在三維空間中放置在同一位置上(盡量,完全對齊更好)。

3、在具有對映的低精度模型上修改其對映框架,使高精度模型的所有部分完全被包裹其內。(就像前文所述一樣,有時候這個步驟是軟體程式自動完成的,有時候是需要你手動完成的,從結果來說肯定是手動調整的Cage比自動生成的好,這是毫無疑問的)

4、選擇具有對映的低精度模型,然後啟用三維模型製作軟體的渲染模組當中的烘焙功能(baking),在烘焙功能中,你可以選擇需要對映高精度模型的什麼資訊,這裡面最常用的是Diffuse(漫反射)、Specular(高光)、matelasse(金屬度)、Normal(法線)、Roughness(粗糙度)、Ambient Occlusion(環境遮擋)。(當然可以對映的東西多了去了,但是最常用的是這幾個)

5、經過烘焙——修改錯誤——再烘焙,得到最終的(包含了高精度模型細節資訊)貼圖,貼回到低精度模型上(這裡的修改錯誤一般指烘焙後得到的貼圖,上面具有的錯誤)

得了大概就這些了~~ 這都趕上我教學的文字量了,呵呵~~

3樓:白雲飛

通過烘焙啊。max maya zbrush substancepainter 這些製作軟體都可以烘焙。原理都是將高模細節烘焙到對應低模uv的貼圖上,以normalmap的方式顯示出來。

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