鍍膜的方法有真空鍍膜和光學鍍膜,他們之間原理有什麼區別呢?

時間 2021-06-29 12:11:43

1樓:中諾新材

1、真空鍍膜是真空應用領域的乙個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,並吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜製備的一種新工藝.簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射,使其在被塗覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固並沉積的方法.

2、光的干涉在薄膜光學中廣泛應用.光學薄膜技術的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上塗鍍薄膜,一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率,以滿足不同的需要.為了消除光學零件表面的反射損失,提高成像質量,塗鍍一層或多層透明介質膜,稱為增透膜或減反射膜.

隨著雷射技術的發展,對膜層的反射率和透過率有不同的要求,促進了多層高反射膜和寬頻增透膜的發展.為各種應用需要,利用高反射膜製造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等.光學零件表面鍍膜後,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強度分布,這是干涉鍍膜的基本原理.

2樓:GDPs

這個問題我來說幾句,真空鍍膜在低於大氣壓的腔體內成膜,包括物理氣相沉積(蒸發,濺射)和化學氣相沉積。

光學鍍膜鍍膜特指製造的膜層用於光學領域,包括各種減反射,高反射,帶通等產品,製造方法包括真空鍍膜,噴塗及浸塗等

另外,真空鍍膜範圍很廣包括各種型別的薄膜。

大概就是這樣的劃分,也沒有特別嚴格的區分。

3樓:彭春雷

在玻璃方面,我們一般說真空磁控濺射和化學氣相沉積。真空磁控濺射是在真空環境下採用離子濺射的方式將銀離子濺射到玻璃表面。化學氣相沉積是將金屬氧化物在氣相狀態下堆積在玻璃表面時與玻璃發生化學反應導致堅固膜層

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