基底具體會對膜的均勻性產生什麼影響?

時間 2021-06-29 12:12:44

1樓:中諾新材

基底在鍍膜前必須清洗,短程的原子間和分子間的力可以使薄膜和基底結合在一起,這種力非常強,因此在基底與薄膜的粘結過程中,基底表面的條件非常重要,即使是在基底表面的汙染物非常細小的單分子層,也會以幾個大小的量級改變粘結力,蒸發物的粘結對表面的條件也非常敏感,而且表面條件能夠完全改變後續膜層的性質,基底清洗可以使蒸發材料粘結在基底表面,而不是汙染物的中間層.

最好的清洗方法是根據汙染物自身的性質去清除.在實驗室中,通常是將基底在溶劑和溫水中徹底清洗,然後在流動的溫水中漂洗,之後用清潔的毛巾或柔軟的棉紙徹底的擦乾,或者更好的辦法是用乾燥的氮氣流將其吹乾.絕對不能讓基底自行晾乾,否則會留下不易去除的汙點,清洗後盡量不要接觸基底,因為其不能長時間保持清潔.

蠟或油脂用醇類如異丙醇清洗,可用蘸有乙醇的清潔球擦拭,然後用液體沖洗表面.但是必須要保證乙醇的清潔.

當大量的基底需要清潔時,可以用超聲波在洗劑溶液或乙醇中清洗,但是要避免長時間暴露於超聲波中,避免劃傷基底表面,之後再用蒸汽清洗.

基底清洗乾淨後,應盡快放入鍍膜室,再用輝光放電做鍍膜前的最後一次清洗,一般是5~10分鐘,放電裝置採用乙個高壓的直流電源(當然也有交流),在適當的氣壓下便產生輝光放電,輝光放電時,基底表面受到正離子轟擊,有效的去除了所有輕薄的殘留物.多數鍍膜機已將其作為標準裝置.另外應當注意,從停止放電到開始鍍第一層膜的時間間隔不應超過3分鐘.

否則會嚴重影響薄膜的效能,特別是薄膜與基底的粘結性將會惡化.

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