1樓：匿名029
從相關已知資訊來看，裝置是一方面，有了裝置應用也是一方面，台積電稱和中芯國際的裝置一樣，可是就能做出來七奈米的，中芯國際就不行，所以，研究光刻機使用和光刻機研發問題同等重要。
2樓：任展巨集
別一天天老盯著光刻機，跟在別人後面走，永遠不可能超越人家。重要的是要研究一下在哪些方面能夠做出引領世界的東西，要梳理一下哪些方面我們是強項？我看以下方面就挺好，比如中醫1005、中藥1008、馬克思主義理論0305、雜交水稻0901、民族樂器演奏1302、國畫1304。
堅定四個自信！
3樓：不如自成宇宙
雖然目前中國在光刻機基礎研究方面取得了很大的進步，但不可否認的是，目前中國光刻機跟國際頂尖水平仍然有很大的差距。
當前全球最頂尖的光刻機製造商是荷蘭的ASML，目前他們已經成功量產7奈米光刻機，而且5奈米3奈米光刻機都在研發當中，這意味著中國光刻機跟國際頂尖技術水平至少差4代以上。
這種差距短期之內想要縮小可能性不大，因為光刻機是乙個龐大的工程，他需要多個國家進行協助合作才可以完成，比如目前ASML有90%以上的零部件都是從其他國家進口的。
而目前很多國家都對中國進行技術封鎖，光刻機上的一些核心零部件，我們沒法從其他國家進口，因此很多核心零部件都需要我們一步一步的去研發。
除此之外，市場和資金也是制約中國光刻機發展的乙個重要原因，目前中國生產的一些光刻機，只能占領一些中低端市場，高階市場基本上已經被荷蘭ASML壟斷。
而ASML之所以能夠壟斷全球高階光刻機市場，除了他們本身的技術過硬之外，還有乙個很重要的原因是目前全球一些主要的晶元製造商，包括台積電，三星海力士， 英特爾是ASML的股東，這些晶元製造商不僅給ASML注入了大量的資金，更關鍵的是在成為ASML的股東之後，他們優先從ASML光刻機。
在這種背景之下，中國光刻機企業想要從ASML搶奪客戶很難，這也是為什麼前幾年時間日本的尼康和佳能光刻機走上沒落的重要原因。
所以單單依靠我們乙個國家的力量想要短期之內實現光刻機的重大突破很難。
但是目前中國光刻機已經到了乙個不得不硬著頭皮去做的境地，所以即便再難花時間再多，中國也必須去研發，而且我相信在中國科研人員的共同努力之下，未來10年之內，中國光刻機有可能迅速縮小跟國際頂尖水平的差距。
4樓：張加健
我了解的資訊很少，但我推斷的是，美國一般都是在你的某個領域有了長足的發展但還沒有發展充分時制裁你，所以應該有了不少進步了，至少美中國人看到中國有發展下去的可能了。現在在爬坡過坎中
5樓：金博寶貝
慢慢追趕，時間可能跨越20年，但是在2023年前後，我們應該可以達到 3nm 技術了 …… 有可能有新的工藝來支援我們的光刻機發展 …… 否則靠 EUV 幾乎不能夠實現 ———— 光源和電源就可以卡死人！
6樓：thremo
國內光刻機廠商主要為上海微電裝備、中電科 48 所、中電科 45 研究所等。
上海微電裝備的發展在國內最為領先，是中國唯一一家生產高階前道光刻機整機的公司，其目前可生產加工 90nm 工藝製程的光刻機，同時承擔國家科技重大專項「極大規模積體電路製造裝備與成套工藝專項」（02 專項）的 65nm 光刻機研製，代表國產光刻機最高水平。但與阿斯麥 7nm 工藝製程 EUV 光刻機相比，仍存在非常大的差距。
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