光學或電磁拓撲絕緣體的工程應用存在哪些問題?

時間 2021-06-08 23:24:27

1樓:一邊學術一邊藝術

我也談點個人看法。從微波工程角度,拓撲結構必須和現存的標準傳輸結構,微帶線、同軸SMA介面、共面波導等實現互聯;而由於模式不匹配,目前饋電效果差,插入損耗大。此外,儘管無後向反射的彎折傳輸,是拓撲結構一大優勢,但是基片整合波導(SIW)也可用簡單的單銷釘實現阻抗匹配,頻寬降低並不大。

另乙個問題,拓撲傳輸結構的場confine的橫向尺寸小,因為兩邊帶隙,場都衰減了,造成了功率容量低。該問題,可用線缺陷拓撲結構,得以緩解,但頻寬會降低。具體參見:

而光學應用雷射器,同樣的採用兩個PC介面,引入拓撲邊態,由於加工問題,可能造成半導體材料的缺陷增加,引入復合中心,非輻射復合增強。光學拓撲並不免疫電學缺陷。

因此,真正的拓撲應用還需諸多努力。

2樓:fangyt

我比較外行,可能說點外行的話。光學拓撲絕緣體一方面需要外加磁場,這增加了系統的複雜性。如果利用光自旋霍爾效應,則需要產生自旋的光源,這也帶來設計的複雜性。

什麼是光學拓撲絕緣體?

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Liang Batra N Sheet G Understanding Basic Concepts of Topological Insulators Through Su Schrieffer Heeger SSH Model J 2019. HuaCB 我來補充幾篇關於AAH model 的r...