1樓：yang shen
自由電子雷射器更接近於這個需求，波長可在很寬的範圍內連續調製。
不過，晶元技術的瓶頸不僅僅是光源波長問題，所以即使使用更短的波長也無法無限提高製程。
2樓：禾田園
看題目我還以為是問怎樣發射高能伽馬射線之類的，原來題主是想問光刻方面的。
對於光刻技術來說，發射波長足夠短的光完全不是問題，難點在於如何控制。
3樓：雨落
腦洞大開是好事，希望你能夠好好讀書，未來為科學進步做貢獻。
如果不好好讀書，沒有系統性的學習，腦洞大開容易成為自娛自樂的民科。
以乙個勉強入門的門外漢的角度來看，
1. FEL(Free electrons laser)字面翻譯是自由電子雷射，工作波段可以從微波到x光。
發出的波長和電子速度，磁場強度有關。勉強符合你的問題。
然而這東西，我個人認為成本較高，不同工作波段成本應該是不同的。
很多東西不一定是不存在，但是為什麼人們不用，很有可能就是條件苛刻或者成本過高或者有負面因素等等。
維基百科上有說明，
人造光源有
black light，短波紫外線燈，白熾燈，gas discharge lamp，紫光LED，紫外線雷射，非線性晶體的混頻，等離子體雷射和同步發射器？（synchrotron）
最後的兩個是極紫外線的光源。
2. 光源可以有，但是怎麼用是乙個問題。
一般顯微鏡裡面，有乙個接近半波長的極限，並且Rayleigh zone裡面有乙個beam waist，光的直徑和波長有關，不是可以無限縮小的。
怎麼在波長不變的情況下光刻更加小的尺寸是乙個問題。
而且可能還有衍射的問題在裡面。（我做的微公尺級別的光刻是有這問題）
3. 量子物理裡面有隧穿效應（我是真門外漢）
薛丁格方程好像可以推出來，當barrier很薄的情況下，粒子有一定概率可以穿過這堵牆。（太陽能電池裡有種結構就用了電子的隧穿效應）
今天看到台積電要花很多錢在2023年搞出來2nm的光刻的新聞，我反正是很驚訝的，佩服的五體投地。
4.光刻膠（猜測）
光刻膠我沒研究過，所以這只是猜測，同一種組織面對不同電磁波的時候，反應是不同的，假設你用x光，或者gamma射線，假設有光學元件可以充當透鏡（有沒有還成問題，我不懂不敢亂說），你確實可以獲得更小的尺寸，但是光刻膠和這光反應不反應都是乙個問題。
很多問題在裡面，不然中國早就自主生產第一梯隊的光刻機了。
還是先好好學習吧，不要瞎想。
最近發現知乎裡問的問題很多都讓人很無語，完全不懂相關知識然後在問一些問題。
4樓：
發光涉及到發光物質的電子的能級躍遷，而波長越小，則其光子能量越高，對應的能級差就越大。每一種物質的能級結構是一定的，不存在任意大的能級差，因此也就不能發出任意小的波長的光。
另外在發光之前，低能級上的電子是需要有激勵源將其幫浦浦到高能級的，這就意味著需要很高能量的幫浦浦源，因此是否有合適的激勵源也是乙個問題。
再次，即使發出了更短波長的光，有沒有合適的材料或者方法製成適用於這種光的光學系統，也決定著其是否能夠用於光刻技術。
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