同乙個型號的晶元,是如何替換到另外一種工藝製程的?

時間 2021-05-31 09:14:26

1樓:

補充前面模擬的仁兄,以後端Analog IP為例。

即使是同節點的製程,TSMC 40nm轉UMC 40nm,前端Designer也要全部重新check每乙個corner是否OK,在此前提下,Layout著手嘗試工藝轉換,但並非都能成功。T轉U能過U的DRC,但是U轉T會帶入很多DRC Error(此處可見TSMC的要求更嚴格咯),沒法轉,那就參照重新Layout。

既然已有Floorplan,會快很多,因為工藝差別不大,除了特殊器件。

非同節點的製程,40nm改成28nm,因為工藝原因,Layout需要統統重畫一遍,甚至floorplan無法參考,比如40nm下Core Device的poly gate沒有規定方向,而28nm則限定垂直。

至於到14nm FinFet,工藝差別太大了,傳統CMOS的晶元floorplan參考意義已經不大,同時電路上也會變化很多,這時候一般不是costdown的版本了。

2樓:龔黎明

模擬的不講,只講數字。RTL不用變,需要重新做綜合,完整的重新走一遍後端流程,然後用新工藝tapeout。

大部分業餘的硬體開發人員,可能根本不清楚IC後端的流程是怎麼樣的。

下面這張圖應該來說是相當專業的後端流程圖(有點偏低功耗設計):包含了電源綜合,掃瞄鏈插入,掃瞄鏈重組,清SI,金屬填充等很多書上講都不會講的流程,看不懂的話你需要自己乙個乙個google。

這個圖也不錯:

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