1樓：
光等離子淨化技術（PurifyingPhoto Plasma）
是採用高階光化學反應科技所形成的一種高階氧化降解技術，
光等離子具有以下幾種幾種能量構成：
雙波長（UVC、UVD）紫外光+（光電啟用）→純淨臭氧（O3）+原子氧（O）+基態氧（O*），
通過有兩種波長的特種紫外光源，能產生出一系列強烈殺菌消毒的光、電等離子體集群，統稱為光等離子。
一切有機汙染（細菌病毒、甲醛、氨、苯、TVOC等）的主要元素是H、C（碳和氫），分子結構比較穩固，
用光等離子進行淨化降解的基本原理是：
在特定波長（UV C）和特定強度的紫外輻射光照射下的有機物（碳氫化合物）發生光敏過程，即有機化合物的分子吸收特定波長光子能量後，分子鏈被撕破，分解為離子、游離態原子、受激分子或中性分子；同時，在特定波長（UV D）和特定強度的紫外輻射光的照射下，空氣中的氧氣分子（O2）吸收光子能量後會變成臭氧（O3）和原子氧（O）、基態氧（O*）；
這些元素的化學性質非常活潑，具有很強的氧化作用，是強氧化劑，能把有機物的光敏分解物全部氧化，變成水蒸氣（H2O）和二氧化碳（CO2）等揮發性無害氣體，達到徹底清除汙染物的目的。
和其他傳統淨化手段相比，這種淨化結果乾淨、徹底、無殘留，不會帶來二次汙染。
光等離子淨化技術是一種主動淨化空氣的先進技術，當空氣進入到淨化室時，其獨有的光等離子技術可以產生大量的光等離子體，這種含有光等離子體的空氣進入室內後，就會對汙染空氣進行主動的淨化。
由於改變了被動淨化空氣的傳統方式和技術，因而大大提高了治理汙染空氣的速度。光等離子體可以摧毀幾乎所有的有機汙染物；同時所產生的負離子又可以消除空氣中的微粒。光等離子體在淨化空氣的過程中被迅速還原成二氧化碳和水，沒有任何的化學殘留物質，不產生二次汙染，對人體和環境無害。
光等離子淨化技術已被證明是效果卓越的消除空氣中和物體表面汙染的方法。通過實驗比較，當用電暈放電所產生的臭氧來清除物體表面的生物汙染時，大概需要10小時。用紫外光照射時，達到同樣的清除效果，大概需要1小時。
將電暈放電和紫外光照射同時使用時，達到同樣的清除效果，大概需要1.5分鐘。
當採用UVCN淨化技術所產生的光等離子體時，達到同樣的清除效果，則僅需要20秒。
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